我在1949摆地摊_山粉圆子山粉圆子: 第639页

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花去了整整三天的时间,接着硅片再次被转移到光刻研究所,开始第二次光刻,由于光刻机的刻蚀深度有限,这一次的光刻需要增大光源功率,因此采用了60瓦紫外线光源的光刻机用新的掩膜版进行光刻,形成半导体电路图形,而这对于定位精度、光刻技术参数的要求更高,--不小心就会直接前功尽弃。

    最后十块硅片完成了二次光刻,又是一套清洗工艺,-番检查下来,十块硅片中,只用一块勉强合格,其它的问题后续再来分析,现在要做的是涂绝缘体,而后手工进行元器件的堆叠,是的就是手工堆叠,因为目前没有这样的机器,甚至元器件都是由微电子研究所根据功能需要临时制作的。

    1956年5月5日,劳动节后的第四天,华为半导体研究所里,世界上第一块真正意义上的集成电路诞生,它比美国基尔1958年的集成电路先进了整整一个半时代,达到了六十年代中后期的水平。

    集成电路研究所里,王守觉、林兰英、夏培肃、吴良有、唐九华以及华为总经理何光远,还有一群研究室里的研究员,大家将王守觉围在中间,静静的等待着。

    只见王守党重重的呼了一口气,而后戴.上了手术用皮质手套,小心的将硅晶片放到了测试架上,拿起指针式万用表的测笔,靠近硅片的引脚开始了测量,只见随着他的动作,万用表上的指针不断的摇晃,一连将所有引脚全部测完,而后又重复了三遍,这才放下了测笔。

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